B+W Filtr Master UV MRC 58mm Nano

Dzięki przepuszczalności światła przekraczającej 99,5%, filtr B+W Filter Master UV MRC 58mm Nano wyznacza nowe standardy czystości optycznej. Ten filtr UV skutecznie blokuje promieniowanie ultrafioletowe poniżej 390 nm, eliminując niebieskawe zabarwienia i zamglenie w fotografii plenerowej, zapewniając wyjątkową ostrość i kontrast.

Przegląd

Zaprojektowany z myślą o wymagających fotografach, ten filtr łączy najwyższej jakości szkło Schott z renomowaną powłoką MRC nano firmy B+W. Wielowarstwowa powłoka odpycha wodę, olej i brud, co sprawia, że czyszczenie jest bezproblemowe, a trwałość filtra długotrwała. Smukła mosiężna ramka jest precyzyjnie wykonana dla zapewnienia trwałości i zapobiega winietowaniu na obiektywach szerokokątnych.

Co wyróżnia ten produkt

• Ultrawysoka przepuszczalność światła (>99,5%) dla nieskazitelnej jakości obrazu
• Powłoka MRC nano: odporna na wodę, olej i zarysowania
• Smukła mosiężna ramka zapobiega winietowaniu na obiektywach szerokokątnych
• Blokuje promieniowanie UV poniżej 390 nm dla obrazów bez zamglenia
• Podwójne zastosowanie: ochrona obiektywu i filtracja UV
• Kompatybilny z aparatami cyfrowymi i analogowymi

Dane techniczne

• Typ filtra: Filtr UV (przeciwmgielny)
• Średnica filtra: 58 mm
• Powłoka: MRC nano (wielowarstwowa powłoka z nanotechnologią)
• Seria filtrów: XS-Pro Digital
• Materiał ramki: Mosiądz
• Konstrukcja ramki: Smukła / do obiektywów szerokokątnych
• Gwint z przodu filtra: Tak
• Współczynnik filtra: 1 (0 EV)
• Przepuszczalność światła: >99,5%
• Granica odcięcia UV: ok. 390 nm
• Materiał szkła: Szkło Schott
• Odporność na wodę: Tak
• Odporność na olej: Tak
• Odporność na zarysowania: Tak
• Powłoka antyrefleksyjna: Tak
• Wpływ na obraz: Poprawia ostrość, kontrast i wierność kolorów

Nasza ocena

B+W Filter Master UV MRC 58mm Nano to ostateczny wybór dla fotografów, którzy wymagają najwyższej jakości optycznej i solidnej ochrony. Jego zaawansowana powłoka nano i precyzyjne wykonanie czynią go niezbędnym akcesorium do każdego obiektywu.