K&F Concept Nano-C HMC UV Filter 49 mm

Filtr UV K&F Concept Nano-C HMC to wysokiej jakości filtr ochronny przeznaczony do obiektywów z gwintem 49 mm. Skutecznie redukuje zamglenie UV, chroni przednią soczewkę przed kurzem, wilgocią i zarysowaniami, zachowując doskonałą ostrość obrazu. Zaawansowana technologia Nano-C Hard Multi-Coating (HMC) zapewnia przepuszczalność światła na poziomie ponad 99,6%, minimalizując odbicia i flary.

Zalety

Filtr oferuje doskonałą ochronę bez pogarszania jakości obrazu. Ultracienka ramka zapobiega winietowaniu nawet w obiektywach szerokokątnych, a podwójny gwint umożliwia nakładanie dodatkowych filtrów. Ramka ze stopu aluminium lotniczego jest lekka, a jednocześnie wytrzymała, a japońskie szkło optyczne AGC zapewnia wyjątkową wydajność optyczną. Filtr jest wodoodporny, odporny na olej i zarysowania, co czyni go idealnym do fotografii plenerowej i podróżniczej.

Przeznaczenie

• Fotografowie używający obiektywów z gwintem filtra 49 mm
• Fotografia krajobrazowa i podróżnicza w celu redukcji zamglenia UV i ochrony obiektywu
• Codzienna ochrona obiektywu przed kurzem, wilgocią i zarysowaniami

Kluczowe specyfikacje

• Typ filtra: Filtr UV
• Średnica filtra: 49 mm
• Powłoka: Nano-C HMC (Hard Multi-Coated), 18 warstw (9 na stronę)
• Materiał ramki: Stop aluminium lotniczego
• Materiał szkła: Japońskie szkło optyczne AGC
• Przepuszczalność światła: >99,6%
• Wodoodporny, odporny na olej, zarysowania, antyrefleksyjny
• Podwójny gwint do nakładania filtrów

Zalecenia

Aby zapewnić optymalną ochronę obiektywu i jakość obrazu, zaleca się używanie tego filtra UV wraz z dekielkiem i ściereczką do czyszczenia. Jest to niezbędny akcesorium dla każdego fotografa dbającego o swoją inwestycję.