K&F Concept Nano-C HMC UV Filter 55 mm

Filtr UV K&F Concept Nano-C HMC to wysokiej jakości akcesorium obiektywowe, zaprojektowane w celu ochrony obiektywu przy jednoczesnej poprawie ostrości obrazu. Dzięki 28-warstwowej twardej powłoce wielowarstwowej osiąga przepuszczalność światła powyżej 99,6%, redukując odbicia i flary. Ultrapłaska ramka ze stopu aluminium lotniczego (ok. 3,3 mm) zapobiega winietowaniu w obiektywach szerokokątnych. Powłoki wodoodporne, olejoodporne i odporne na zarysowania utrzymują filtr w czystości i trwałości. Idealny do fotografii krajobrazowej i plenerowej, blokuje promieniowanie UV, redukując zamglenie i poprawiając kontrast.

Zalety

• Doskonała transmisja światła (>99,6%) minimalizująca wpływ na ekspozycję
• 28-warstwowa powłoka Nano-C HMC dla antyrefleksyjności i trwałości
• Ultrapłaska ramka (3,3 mm) zapobiegająca winietowaniu
• Wodoodporność, olejoodporność i odporność na zarysowania ułatwiające konserwację
• Chroni przednią soczewkę obiektywu przed kurzem, zarysowaniami i uderzeniami

Odpowiedni dla

• Obiektywów z gwintem filtra 55 mm
• Fotografii krajobrazowej i plenerowej
• Ochrony drogich elementów obiektywu
• Redukcji zamglenia i poprawy kontrastu w jasnych warunkach

Kluczowe specyfikacje

• Typ filtra: Filtr UV
• Średnica filtra: 55 mm
• Powłoka: Nano-C HMC (28 warstw)
• Przepuszczalność światła: >99,6%
• Szkło: Wysokiej rozdzielczości szkło optyczne
• Ramka: Stop aluminium lotniczego, ultrapłaska (3,3 mm)
• Wodoodporny, olejoodporny, odporny na zarysowania
• Gwint przedni: Tak (do stackowania lub dekielka)

Zalecenia

Zawsze miej filtr UV na obiektywie dla ochrony. Filtr K&F Concept oferuje doskonałą jakość optyczną bez pogarszania ostrości obrazu. Połącz z dekielkiem dla dodatkowego bezpieczeństwa.