K&F Concept Nano-X MRC UV Filter do Fujifilm X100 Series (Czarna Ramka)

Filtr UV K&F Concept Nano-X MRC to premiumowe rozwiązanie ochrony obiektywu, zaprojektowane specjalnie dla aparatów z serii Fujifilm X100, w tym X100, X100S, X100V, X100F i X100VI. Ten dopasowany filtr zastępuje oryginalny pierścień przedni, zapewniając bezproblemową integrację i niezmienioną jakość obrazu.

Zalety

Filtr UV oferuje wieloodporną powłokę (MRC) zapewniającą doskonałą ochronę przed zarysowaniami, wodą, olejem i odbiciami. Dzięki przepuszczalności światła powyżej 99,6% minimalnie wpływa na ostrość obrazu, jednocześnie skutecznie redukując promieniowanie UV i zamglenie. Ultracienka ramka z lotniczego stopu aluminium zachowuje kompaktową sylwetkę aparatu.

Pasuje do

• Fujifilm X100
• Fujifilm X100S
• Fujifilm X100V
• Fujifilm X100F
• Fujifilm X100VI

Kluczowe specyfikacje

• Typ filtra: Filtr UV
• Powłoka: Nano-X Multi-Resistant Coating (MRC)
• Materiał szkła: Wysokiej rozdzielczości szkło optyczne
• Materiał ramki: Lotniczy stop aluminium
• Konstrukcja ramki: Ultracienka
• Przepuszczalność światła: >99,6%
• Odporność na wodę: Tak (hydrofobowa)
• Odporność na olej: Tak (oleofobowa)
• Odporność na zarysowania: Tak
• Antyrefleksyjna: Tak
• Absorpcja UV: Tak
• Kolor: Czarny (ramka)

Zalecenia

Aby uzyskać optymalną ochronę i jakość obrazu, używaj tego filtra jako stałej osłony obiektywu. Jego dopasowanie zapewnia brak winietowania i łatwy montaż.