K&F Concept Nano-X MRC UV Filter Ultra Low Reflection 77mm

Filtr UV K&F Concept Nano-X MRC to wysokiej jakości akcesorium obiektywowe, zaprojektowane w celu ochrony wartościowego obiektywu aparatu przy jednoczesnym zmniejszeniu zamglenia UV i poprawie ostrości obrazu. Dzięki ultra niskiemu odbiciu i wielowarstwowej powłoce, filtr ten minimalizuje flary i duchy, co czyni go niezbędnym narzędziem zarówno dla profesjonalnych, jak i amatorskich fotografów.

Zalety

Filtr UV oferuje doskonałą ochronę przed kurzem, wilgocią, zarysowaniami i odciskami palców dzięki hydrofobowym i oleofobowym powłokom. Ultracienka ramka (3,3 mm) zapobiega winietowaniu na obiektywach szerokokątnych, a podwójny gwint umożliwia montaż dodatkowych filtrów lub osłon. Wysoka przepuszczalność światła (>99,6%) zapewnia neutralne odwzorowanie kolorów i brak wpływu na jakość obrazu.

Przeznaczenie

• Fotografowie używający obiektywów z gwintem filtra 77 mm
• Fotografia plenerowa i podróżnicza, gdzie ochrona obiektywu jest kluczowa
• Fotografowanie w środowiskach o wysokim promieniowaniu UV w celu zmniejszenia zamglenia i poprawy kontrastu

Kluczowe specyfikacje

• Typ filtra: Filtr UV
• Średnica filtra: 77 mm
• Powłoka: Wielowarstwowa powłoka (MRC)
• Współczynnik odbicia: Ultra niski
• Materiał szkła: Wysokiej jakości szkło optyczne
• Materiał ramki: Stop aluminium lotniczego
• Profil ramki: Ultracienki (3,3 mm)
• Przepuszczalność światła: >99,6%
• Ochrona UV: Blokuje promieniowanie UV poniżej 390 nm
• Odporność na wodę: Tak (hydrofobowa)
• Odporność na oleje: Tak (oleofobowa)
• Odporność na zarysowania: Tak
• Antystatyczność: Tak
• Typ gwintu: Podwójny gwint
• Seria: K&F Concept Nano-X

Zalecenia

Aby uzyskać optymalną wydajność, zaleca się stosowanie tego filtra wraz z osłoną przeciwsłoneczną, aby dodatkowo zredukować niepożądane światło. Filtr jest kompatybilny ze wszystkimi obiektywami z gwintem 77 mm i idealnie nadaje się do użytku w trudnych warunkach pogodowych.