K&F Concept Nano-X Ultra-Low Reflection Circular Polarizer Filter 49mm

Filtr polaryzacyjny kołowy (CPL) K&F Concept Nano-X o ultra niskim odbiciu to wysokiej klasy akcesorium optyczne przeznaczone dla fotografów pragnących eliminować odbicia, zwiększać nasycenie kolorów i poprawiać kontrast. Filtr o średnicy 49mm pasuje do obiektywów z gwintem filtra 49mm, co czyni go idealnym dla szerokiej gamy aparatów i obiektywów.

Zalety

Ten filtr CPL skutecznie redukuje odblaski z powierzchni niemetalicznych, takich jak woda, szkło i liście, umożliwiając uzyskanie wyraźniejszych, bardziej żywych zdjęć. Powłoka o ultra niskim odbiciu (<0,1%) minimalizuje flary i duchy, zapewniając wysokokontrastowe rezultaty nawet w trudnych warunkach oświetleniowych. 28-warstwowa powłoka wielowarstwowa zapewnia doskonałą transmisję światła, chroniąc jednocześnie obiektyw przed zarysowaniami, kurzem i wilgocią.

Zastosowanie

• Fotografia krajobrazowa – pogłębianie błękitu nieba i redukcja mgły
• Fotografia wody i przyrody – eliminacja odbić od powierzchni
• Fotografia architektury i miast – wzmacnianie kolorów i kontrastu
• Każda sytuacja wymagająca redukcji odblasków i zwiększenia nasycenia kolorów

Kluczowe specyfikacje

• Typ filtra: Polaryzacyjny kołowy (CPL)
• Średnica filtra: 49mm
• Seria: Nano-X
• Powłoki: 28-warstwowa wielowarstwowa
• Współczynnik odbicia: Ultra niski (<0,1%)
• Materiał szkła: Japońskie szkło optyczne AGC
• Materiał ramki: Lotniczy stop aluminium
• Typ ramki: Ultra cienka (grubość 3,3mm)
• Hydrofobowość i oleofobowość: Tak (powłoka nano)
• Odporność na zarysowania: Tak (powłoka nano)
• Redukcja światła: 1-2 stopnie (ok.)
• Gwint: Podwójny (z przodu i z tyłu)
• Czystość optyczna: Wysoka rozdzielczość
• Wierność kolorów: Brak przesunięcia barw

Zalecenia

Aby uzyskać najlepsze rezultaty, używaj tego filtra z obiektywami posiadającymi gwint filtra 49mm. Ultra cienka ramka minimalizuje winietowanie w obiektywach szerokokątnych. Przechowuj w etui ochronnym, gdy nie jest używany, aby zachować integralność powłoki nano.