K&F Concept UV NANO-X PRO MRC 55mm UV Filter

Filtr UV K&F Concept UV NANO-X PRO MRC 55mm to wysokiej jakości filtr ochronny, który chroni obiektyw i poprawia ostrość obrazu. Dzięki zaawansowanej 28-warstwowej powłoce wieloodpornej (MRC) i nanopowłoce zapewnia przepuszczalność światła na poziomie ponad 99,6%, minimalnie wpływając na jakość obrazu. Filtr skutecznie blokuje 99,9% promieniowania UV, redukując zamglenie i poprawiając kontrast w fotografii plenerowej.

Zalety

Filtr zapewnia niezbędną ochronę obiektywu przed kurzem, wilgocią, zarysowaniami i uderzeniami, nie pogarszając parametrów optycznych. Ultracienka ramka (3,3 mm) zapobiega winietowaniu na obiektywach szerokokątnych, a gwint z przodu umożliwia dokręcanie dodatkowych filtrów lub dekielków. Powłoki hydrofobowe, oleofobowe i odporne na zarysowania ułatwiają czyszczenie i konserwację.

Przeznaczenie

• Fotografowie używający obiektywów z gwintem filtra 55mm
• Fotografia plenerowa i krajobrazowa w celu redukcji zamglenia i poprawy ostrości
• Ochrona wartościowych obiektywów przed czynnikami zewnętrznymi

Kluczowe specyfikacje

• Typ filtra: Filtr UV
• Średnica filtra: 55mm
• Seria: Nano-X Pro
• Powłoki: 28-warstwowa powłoka wieloodporna (MRC) + nanopowłoka
• Przepuszczalność światła: >99,6%
• Materiał optyczny: Japońskie szkło optyczne AGC
• Materiał ramki: Stop aluminium lotniczego
• Grubość ramki: 3,3 mm
• Wodoodporny, olejoodporny, odporny na zarysowania, antyrefleksyjny
• Redukcja UV: Blokuje 99,9% promieniowania UV
• Współczynnik filtra: 1 (brak korekty ekspozycji)
• Gwint przedni: Tak (umożliwia dokręcanie)

Zalecenia

Aby uzyskać optymalną wydajność, zaleca się stosowanie tego filtra UV wraz z osłoną przeciwsłoneczną, aby zminimalizować flary i chronić przed rozproszonym światłem. Regularnie czyść filtr ściereczką z mikrofibry, aby zachować jego właściwości hydrofobowe i oleofobowe.