K&F Concept UV NANO-X PRO MRC 58mm UV Filter

Filtr UV K&F Concept UV NANO-X PRO MRC 58mm to wysokiej jakości filtr UV przeznaczony do ochrony obiektywu i poprawy jakości obrazu. Wykonany z japońskiego szkła optycznego AGC i 28-warstwowej nanopowłoki wieloodpornej, zapewnia 99,6% przepuszczalności światła, odporność na wodę i oleje oraz odporność na zarysowania. Ultracienka ramka ze stopu aluminium lotniczego o grubości 3,3 mm zapobiega winietowaniu, a podwójny gwint umożliwia montaż dodatkowych filtrów lub dekielków. Filtr blokuje promieniowanie UV do 390 nm, redukując zamglenie atmosferyczne i niebieski odcień, co daje wyraźniejsze i bardziej naturalne obrazy.

Zalety

Zapewnia doskonałą ochronę obiektywu bez pogorszenia jakości obrazu. Wieloodporna powłoka ułatwia czyszczenie i zapewnia trwałość, a ultracienka konstrukcja zachowuje kompatybilność z szerokimi kątami. Idealny do fotografii plenerowej i podróżniczej.

Przeznaczenie

• Fotografowie używający obiektywów z gwintem filtra 58mm
• Fotografia krajobrazowa i plenerowa w celu redukcji zamglenia
• Ochrona przednich soczewek drogich obiektywów przed kurzem, zarysowaniami i wilgocią

Kluczowe specyfikacje

• Typ filtra: Filtr UV
• Średnica filtra: 58mm
• Materiał optyczny: Japońskie szkło optyczne AGC
• Powłoki: 28-warstwowa nanopowłoka wieloodporna (MRC)
• Przepuszczalność światła: 99,6%
• Materiał ramki: Stop aluminium lotniczego
• Grubość ramki: 3,3mm
• Odporność na wodę: Tak
• Odporność na oleje: Tak
• Odporność na zarysowania: Tak
• Antyrefleksyjność: Tak
• Ochrona UV: Blokuje promieniowanie UV do 390nm
• Rodzaj gwintu: Podwójny gwint (z przodu i z tyłu)

Zalecenia

Aby uzyskać najlepsze rezultaty, używaj z dekielkiem i ściereczką do czyszczenia. Odpowiedni zarówno dla profesjonalnych, jak i amatorskich fotografów poszukujących niezawodnej ochrony obiektywu i poprawy ostrości obrazu.