K&F Concept Nano-X MRC UV Filter 43mm Ultra Low Reflection

Filtr UV K&F Concept Nano-X MRC to wysokiej klasy akcesorium obiektywowe zaprojektowane w celu ochrony obiektywu aparatu przy jednoczesnej poprawie jakości obrazu. Dzięki zaawansowanej powłoce Nano-X Multi-Resistant Coating (MRC) składającej się z 28 warstw, filtr osiąga 99,9% przepuszczalności światła i ultraniski współczynnik odbicia poniżej 0,15%, minimalizując wpływ na zdjęcia. Wysokiej jakości szkło optyczne i ramka ze stopu aluminium lotniczego zapewniają trwałość, a ultracienka ramka o grubości 3,3 mm zapobiega winietowaniu w obiektywach szerokokątnych. Właściwości wodoodporne, olejoodporne, odporne na zarysowania i antystatyczne sprawiają, że filtr idealnie nadaje się do użytku w plenerze i w studiu.

Zalety

Ten filtr UV nie tylko blokuje szkodliwe promienie UV, ale także chroni obiektyw przed kurzem, wilgocią i zarysowaniami. Podwójny gwint umożliwia nakładanie innych filtrów lub dekielków. Dzięki powłoce Nano-X redukuje flary i duchy, zapewniając czystsze i ostrzejsze obrazy.

Odpowiedni dla

• Fotografów używających obiektywów z gwintem filtra 43 mm
• Fotografii plenerowej i podróżniczej wymagającej ochrony obiektywu
• Pracy w studiu, gdzie ochrona UV i czystość obrazu są niezbędne

Kluczowe specyfikacje

• Typ filtra: Filtr UV
• Średnica filtra: 43 mm
• Powłoka: Nano-X Multi-Resistant Coating (MRC), 28 warstw
• Przepuszczalność światła: 99,9%
• Współczynnik odbicia: <0,15%
• Materiał szkła: Wysokiej jakości szkło optyczne
• Materiał ramki: Stop aluminium lotniczego
• Grubość ramki: 3,3 mm (ultracienka)
• Wodoodporny, olejoodporny, odporny na zarysowania, antystatyczny
• Typ gwintu: Podwójny gwint
• Seria: Nano-X

Zalecenia

Aby uzyskać optymalną wydajność, połącz ten filtr z dekielkiem obiektywu i zestawem do czyszczenia. Upewnij się, że filtr jest bezpiecznie przymocowany, aby uniknąć poluzowania podczas użytkowania. Idealny zarówno dla amatorów, jak i profesjonalnych fotografów poszukujących niezawodnej ochrony obiektywu bez utraty jakości obrazu.