K&F Concept Nano-X MRC UV Filter do Fujifilm X100/X100S/X100F/X100V/X100VI (KF01.2703)

Filtr UV K&F Concept Nano-X MRC to wysokiej klasy filtr ochronny na obiektyw, zaprojektowany specjalnie dla aparatów z serii Fujifilm X100 (X100, X100S, X100F, X100V, X100VI). Zastępuje oryginalny pierścień przedni obiektywu, zapewniając idealne dopasowanie bez wpływu na kompaktową formę aparatu. Filtr wykorzystuje zaawansowaną technologię powłok Nano-X Multi-Resistant Coating (MRC), oferując doskonałą ochronę przed kurzem, zarysowaniami, wilgocią i zamgleniem atmosferycznym, zachowując wyjątkową czystość optyczną.

Zalety

Ten filtr UV nie tylko chroni cenny obiektyw, ale także poprawia jakość obrazu poprzez redukcję zamglenia i zwiększenie kontrastu. 28-warstwowa powłoka zapewnia przepuszczalność światła >99,6%, minimalizując odbicia i flary. Ultracienka ramka ze stopu aluminium lotniczego nie dodaje zbędnej masy, zachowując smukły design aparatu. Właściwości hydrofobowe i oleofobowe ułatwiają czyszczenie, a odporność na zarysowania gwarantuje długotrwałą trwałość.

Pasuje do

• Fujifilm X100
• Fujifilm X100S
• Fujifilm X100F
• Fujifilm X100V
• Fujifilm X100VI

Kluczowe specyfikacje

• Typ filtra: Filtr UV
• Technologia powłok: Nano-X Multi-Resistant Coating (MRC)
• Materiał optyczny: Wysokiej rozdzielczości szkło optyczne
• Materiał ramki: Stop aluminium lotniczego
• Sposób montażu: Bezpośrednie wkręcanie (zastępuje oryginalny pierścień przedni obiektywu)
• Przepuszczalność światła: >99,6%
• Hydrofobowy i oleofobowy: Tak
• Odporny na zarysowania: Tak
• Antyrefleksyjny: Tak
• Absorpcja UV: Tak
• Profil ramki: Ultracienki
• Liczba warstw powłok: 28
• Kolor: Czarny

Zalecenia

Dla optymalnej ochrony i jakości obrazu zawsze używaj wysokiej jakości filtra UV, takiego jak K&F Concept Nano-X MRC. To niezbędny akcesorium dla fotografów, którzy chcą utrzymać obiektyw aparatu z serii Fujifilm X100 w bezpieczeństwie bez kompromisów w wydajności.