K&F Concept Nano-X MRC UV Filter Ultra Low Reflection 40.5mm

Filtr UV K&F Concept Nano-X MRC to wysokiej klasy akcesorium obiektywowe zaprojektowane dla fotografów wymagających najwyższej czystości optycznej i ochrony. Dzięki wyjątkowo niskiemu współczynnikowi odbicia poniżej 0,3% i przepuszczalności światła powyżej 99,6%, filtr ten minimalizuje wpływ na jakość obrazu, jednocześnie chroniąc obiektyw przed kurzem, zarysowaniami i promieniowaniem UV.

Zalety

Wyposażony w 28 warstw powłoki Nano-X Multi-Resistant Coating (MRC), filtr jest hydrofobowy, oleofobowy, odporny na zarysowania i antystatyczny. Ultracienka ramka ze stopu aluminium zapobiega winietowaniu nawet w obiektywach szerokokątnych, a gwint z przodu umożliwia nakładanie dodatkowych filtrów lub dekli.

Odpowiedni dla

• Obiektywów z gwintem filtra 40,5 mm
• Fotografów poszukujących ochrony UV i zabezpieczenia obiektywu
• Fotografii plenerowej i podróżniczej, gdzie bezpieczeństwo obiektywu jest kluczowe

Kluczowe specyfikacje

• Typ filtra: UV
• Średnica filtra: 40,5 mm
• Powłoka: Nano-X MRC (28 warstw)
• Współczynnik odbicia: <0,3%
• Przepuszczalność światła: >99,6%
• Materiał szkła: Wysokiej jakości szkło optyczne
• Materiał ramki: Stop aluminium
• Hydrofobowy i oleofobowy: Tak
• Odporny na zarysowania i antystatyczny: Tak

Zalecenia

Aby uzyskać optymalną wydajność, łącz ten filtr z deklem obiektywu i przechowuj w etui ochronnym. Idealny zarówno dla amatorów, jak i profesjonalnych fotografów, którzy stawiają na jakość obrazu i trwałość sprzętu.