K&F Concept Nano-X MRC UV Filter Ultra Low Reflection 55mm

Filtr UV K&F Concept Nano-X MRC to wysokowydajny akcesorium do obiektywu, zaprojektowane w celu ochrony obiektywu przy jednoczesnej poprawie jakości obrazu. Dzięki zaawansowanej powłoce Nano-X Multi-Resistant Coating (MRC) z 28 warstwami, osiąga przepuszczalność światła ponad 99,6% i odbicie poniżej 0,3%, zapewniając ultra niskie odbicie i doskonałą klarowność. Filtr wykonany jest z japońskiego szkła optycznego AGC oraz ramki ze stopu aluminium lotniczego, co gwarantuje trwałość i smukły profil 3,3 mm. Jest odporny na wodę, olej, zarysowania i elektryczność statyczną, co czyni go idealnym do fotografii plenerowej i studyjnej. Podwójny gwint umożliwia nakładanie dodatkowych filtrów lub dekielków.

Zalety

Ultra niskie odbicie redukuje odblaski i flary, poprawiając kontrast i dokładność kolorów. Powłoka wieloodporna chroni przed wodą, olejem, zarysowaniami i elektrycznością statyczną, zapewniając łatwe czyszczenie i długotrwałą wydajność. Ultra cienka ramka zapobiega winietowaniu na obiektywach szerokokątnych.

Zastosowanie

• Fotografowie szukający ochrony obiektywu bez utraty jakości obrazu
• Fotografia plenerowa i krajobrazowa w celu redukcji zamglenia atmosferycznego
• Praca studyjna wymagająca wysokiej transmisji światła i minimalnych odbić

Kluczowe specyfikacje

• Typ filtra: Filtr UV
• Średnica filtra: 55 mm
• Powłoka: Nano-X Multi-Resistant Coating (MRC), 28 warstw dwustronnie
• Przepuszczalność światła: >99,6%
• Współczynnik odbicia: <0,3%
• Materiał szkła: Japońskie szkło optyczne AGC
• Materiał ramki: Stop aluminium lotniczego
• Grubość ramki: 3,3 mm
• Typ gwintu: Podwójny gwint (z przodu i z tyłu)
• Odporność na wodę, olej, zarysowania i elektryczność statyczną

Zalecenia

Aby uzyskać optymalną wydajność, połącz ten filtr UV z osłoną przeciwsłoneczną, aby zminimalizować rozproszone światło. Czyść ściereczką z mikrofibry, aby zachować integralność powłoki. Idealny zarówno dla amatorów, jak i profesjonalnych fotografów.