K&F Concept Nano-X MRC UV Filter Ultra Low Reflection 58mm

Filtr UV K&F Concept Nano-X MRC to wysokiej jakości filtr ochronny zaprojektowany do zabezpieczania obiektywu przy jednoczesnym zwiększeniu ostrości obrazu. Dzięki ultra niskiemu odbiciu i zaawansowanej powłoce Nano-X Multi-Resistant Coating zapewnia doskonałe przenoszenie światła i minimalne odblaski. Idealny dla fotografów poszukujących niezawodnej ochrony obiektywu bez utraty jakości obrazu.

Zalety

Filtr ten zapewnia wyjątkową ochronę przed kurzem, wilgocią, zarysowaniami i uderzeniami. Jego 28-warstwowa, dwustronna powłoka redukuje odbicia poniżej 0,3%, gwarantując ostre i kontrastowe obrazy. Ultracienka ramka o grubości 3,3 mm zapobiega winietowaniu nawet w obiektywach szerokokątnych, a właściwości hydrofobowe i oleofobowe ułatwiają czyszczenie.

Przeznaczenie

• Fotografowie używający obiektywów z gwintem filtra 58 mm
• Fotografia plenerowa i podróżnicza, gdzie ochrona obiektywu jest niezbędna
• Fotografia studyjna i krajobrazowa wymagająca minimalnych odbić

Kluczowe specyfikacje

• Typ filtra: Filtr ochronny UV
• Średnica filtra: 58 mm
• Technologia powłoki: Nano-X Multi-Resistant Coating (MRC)
• Liczba warstw powłoki: 28 warstw (dwustronna)
• Przepuszczalność światła: >99,6%
• Współczynnik odbicia: <0,3%
• Materiał ramki: Stop aluminium lotniczego
• Materiał szkła: Japońskie szkło optyczne AGC
• Grubość ramki: 3,3 mm (ultracienka)
• Hydrofobowy: Tak
• Oleofobowy: Tak
• Odporny na zarysowania: Tak
• Antystatyczny: Tak
• Przeciwodblaskowy: Tak
• Absorpcja UV: Tak
• Typ gwintu: Dwustronny (przód i tył)
• Kompatybilność: Obiektywy z gwintem filtra 58 mm
• Seria: Nano-X

Zalecenia

Aby uzyskać optymalną wydajność, należy używać filtra wraz z deklem i ściereczką do czyszczenia. Zaleca się stosowanie filtra jako stałej warstwy ochronnej na obiektywie. Upewnij się, że filtr jest bezpiecznie przymocowany, aby uniknąć przypadkowego poluzowania.