K&F Concept Nano-X Ultra-Low Reflection Circular Polarizer Filter 55mm

Filtr polaryzacyjny kołowy (CPL) K&F Concept Nano-X o ultraniskim odbiciu to wysokiej klasy akcesorium optyczne przeznaczone dla fotografów pragnących poprawić jakość obrazu poprzez redukcję odblasków i refleksów. Wykonany z japońskiego szkła optycznego AGC i zaawansowanej 28-warstwowej powłoki, filtr osiąga ultraniski współczynnik odbicia 0,1%, zapewniając wysoką transmisję światła (>99%) i minimalną flarę. Aluminiowa rama ze stopu lotniczego jest ultracienka (3,3 mm), co zapobiega winietowaniu na obiektywach szerokokątnych. Filtr jest wodoodporny, odporny na olej i zarysowania, co czyni go trwałym w użytkowaniu na zewnątrz.

Zalety

Skutecznie redukuje odbicia od powierzchni niemetalicznych, takich jak woda i szkło, pogłębia błękit nieba oraz zwiększa nasycenie kolorów i kontrast. Podwójny gwint umożliwia nakładanie dodatkowych filtrów lub mocowanie dekielka. Ultracienka rama zapewnia kompatybilność z obiektywami szerokokątnymi bez winietowania.

Zastosowanie

• Fotografia krajobrazowa – przyciemnianie nieba i redukcja odblasków od wody
• Fotografia produktowa – eliminacja refleksów na błyszczących powierzchniach
• Fotografia plenerowa i podróżnicza – żywe, kontrastowe obrazy
• Obiektywy z gwintem filtra 55 mm

Kluczowe specyfikacje

• Typ filtra: Polaryzacyjny kołowy (CPL)
• Średnica filtra: 55 mm
• Seria: Nano-X
• Technologia powłok: 28-warstwowa wielowarstwowa
• Współczynnik odbicia: Ultraniski (0,1%)
• Materiał szkła: Japońskie szkło optyczne AGC
• Materiał ramy: Aluminium ze stopu lotniczego
• Grubość ramy: 3,3 mm (ultracienka)
• Wodoodporny, odporny na olej i zarysowania
• Podwójny gwint do stackowania
• Transmisja światła: >99%

Zalecenia

Aby uzyskać najlepsze rezultaty, używaj z osłoną przeciwsłoneczną, aby zminimalizować rozproszone światło. Przed montażem upewnij się, że filtr jest czysty, aby uniknąć plam kurzu. Kompatybilny ze wszystkimi obiektywami z gwintem filtra 55 mm.