K&F Concept Nano-X Ultra-Low Reflection Circular Polarizer Filter 62mm

Filtr polaryzacyjny kołowy (CPL) K&F Concept Nano-X o ultra-niskim odbiciu to wysokiej klasy akcesorium optyczne zaprojektowane dla fotografów pragnących poprawić jakość obrazu poprzez redukcję odblasków i refleksów. Wykonany z japońskiego szkła optycznego AGC i zaawansowanej 28-warstwowej powłoki Nano-X, filtr osiąga współczynnik odbicia poniżej 0,1%, zapewniając wyjątkową transmisję światła i wierność kolorów. Ultracienka ramka ze stopu aluminium lotniczego o grubości 3,3 mm minimalizuje winietowanie, co czyni go idealnym do obiektywów szerokokątnych.

Zalety

Filtr CPL skutecznie redukuje odbicia od powierzchni niemetalicznych, takich jak woda i szkło, pogłębia błękit nieba oraz zwiększa nasycenie kolorów i kontrast. Powłoki wodoodporne, olejoodporne i odporne na zarysowania zapewniają trwałość i łatwe czyszczenie. Dzięki współczynnikowi polaryzacji sięgającemu 99,9% filtr zapewnia profesjonalną jakość.

Zastosowanie

• Fotografia krajobrazowa – pogłębianie nieba i redukcja zamglenia
• Fotografia wody i szkła – eliminacja odbić
• Fotografia plenerowa i podróżnicza – żywe kolory
• Obiektywy z gwintem filtra 62mm

Kluczowe specyfikacje

• Typ filtra: Polaryzacyjny kołowy (CPL)
• Średnica filtra: 62mm
• Seria: Nano-X
• Powłoka: 28-warstwowa powłoka Nano-X
• Współczynnik odbicia: <0,1%
• Materiał szkła: Japońskie szkło optyczne AGC
• Materiał ramki: Stop aluminium lotniczego
• Grubość ramki: 3,3mm
• Redukcja światła: 1-2 stopnie (odpowiednik ND2-ND4)
• Współczynnik polaryzacji: Do 99,9%
• Funkcje specjalne: Wodoodporność, olejoodporność, odporność na zarysowania

Zalecenia

Aby uzyskać najlepsze rezultaty, używaj filtra z osłoną przeciwsłoneczną, aby zapobiec niepożądanemu światłu. Upewnij się, że filtr jest prawidłowo przykręcony do obiektywu. W razie potrzeby czyść ściereczką z mikrofibry.